수동으로 전처리를 시행하는 것은 연구실에서 매우 일반적인 일이다. 그러나 처리해야 할 시료의 개수가 많아질 경우에는 수동으로 진행했던 실험 과정을 자동화시킬 필요가 있다. 수동으로 처리하던 과정을 자동화로 변환하는 것은 쉬운 일이 아니지만, 액체 시료 간의 점성이 서로 다를 때에는 특히 더 복잡해질 수 있다. 물에 비해 점성이 높거나 낮은 액체들은 자동화 과정을 최적화시키기 위하여 서로 다른 처리 파라미터들이 요구되기도 한다.

ICP-OES에 의한 산업 품질 관리에서 희석 전략은 종종 플라즈마 부하 및 Intensity Drifting을 줄이기 위해 사용된다. 이러한 과정은 시료 재 전처리 및 시료 당 소요 시간에 상당한 영향을 미치며, 더 중요한 것은 측정할 수 있는 사양 한계에 영향을 미친다. 즉, 100g/L의 산화 아연이 포함된 공정 제어 용액을 10배 또는 500배로 희석하면 그에 따라 달성할 규격 한계가 증가한다. 하지만 PlasmaQuant® PQ 9000 Elite HR Array ICP-OES는 희석하지 않은 산화 아연 공정 제어 용액의 분석을 가능하게 하므로, Pb 및 Cd와 같은 중요 원소에 대한 사양 한계가 더욱 감소된다