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고분해능 HR-ICP-OES를 이용한 산화아연(ZnO) 분석
[19-02-11 09:48]
ICP-OES에 의한 산업 품질 관리에서 희석 전략은 종종 플라즈마 부하 및 Intensity Drifting을 줄이기 위해 사용된다. 이러한 과정은 시료 재 전처리 및 시료 당 소요 시간에 상당한 영향을 미치며, 더 중요한 것은 측정할 수 있는 사양 한계에 영향을 미친다. 즉, 100g/L의 산화 아연이 포함된 공정 제어 용액을 10배 또는 500배로 희석하면 그에 따라 달성할 규격 한계가 증가한다. 하지만 PlasmaQuant® PQ 9000 Elite HR Array ICP-OES는 희석하지 않은 산화 아연 공정 제어 용액의 분석을 가능하게 하므로, Pb 및 Cd와 같은 중요 원소에 대한 사양 한계가 더욱 감소된다
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